AI 요약
Hello Group은 2026년 3월 31일 마감되는 1분기 실적을 2026년 6월 2일 화요일 미국 시장 개장 전에 발표할 예정입니다.
경영진은 같은 날 오전 7시(미국 동부 시간)에 실적 발표 컨퍼런스 콜을 개최할 예정입니다.
이번 실적 발표는 Hello Group의 2026년 첫 분기 재무 성과를 투자자들에게 제공하며, 향후 사업 방향에 대한 경영진의 코멘트가 예상됩니다.
핵심 포인트
- Hello Group은 2026년 3월 31일 마감되는 1분기 실적을 2026년 6월 2일 화요일 미국 시장 개장 전에 발표할 예정입니다.
- 경영진은 같은 날 오전 7시(미국 동부 시간)에 실적 발표 컨퍼런스 콜을 개최할 예정입니다.
- 이번 실적 발표는 Hello Group의 2026년 첫 분기 재무 성과를 투자자들에게 제공하며, 향후 사업 방향에 대한 경영진의 코멘트가 예상됩니다.
긍정 / 부정 요인
긍정 요인
- 정기적인 실적 발표 일정 공지
부정 요인
- 실적 발표 자체는 중립적인 이벤트이며, 결과에 따라 변동성이 발생할 수 있음
기사 전문
ASML과 imec, 차세대 반도체 생태계 위한 'High NA EUV 리소그래피 랩' 공동 개소
첨단 반도체 제조 기술의 새로운 지평을 열 'High NA EUV 리소그래피 랩'이 문을 열었습니다. 세계적인 나노전자 및 디지털 기술 연구혁신 허브인 imec과 반도체 장비 선두주자 ASML은 네덜란드 벨도벤에 공동으로 운영하는 'High NA EUV 리소그래피 랩'을 공식 개소했다고 3일 밝혔습니다.
수년간의 구축 및 통합 과정을 거쳐 완성된 이 연구소는 최첨단 로직 및 메모리 칩 제조사, 그리고 첨단 소재 및 장비 공급업체들에게 최초의 프로토타입 High NA EUV 스캐너(TWINSCAN EXE:5000)와 관련 공정 및 계측 장비에 대한 조기 접근 기회를 제공합니다.
이번 공동 연구소 개소는 High NA EUV 기술의 대량 생산 준비를 가속화하는 중요한 이정표가 될 것으로 예상됩니다. 2025~2026년경 대량 생산이 시작될 것으로 전망되는 가운데, imec과 ASML은 이번 연구소를 통해 최첨단 로직 및 메모리 칩 제조사들이 High NA EUV 프로토타입 스캐너와 코팅 및 현상 트랙, 계측 장비, 웨이퍼 및 마스크 핸들링 시스템 등 관련 도구에 접근할 수 있도록 지원합니다. 이를 통해 기술 도입에 따른 위험을 줄이고, 자체 생산 라인에 스캐너가 도입되기 전에 맞춤형 High NA EUV 활용 사례를 개발할 수 있도록 돕습니다. 또한, 더 넓은 범위의 소재 및 장비 공급업체와 imec의 High NA 패터닝 프로그램에도 접근이 가능해집니다.
0.55 NA EUV 스캐너와 인프라 준비는 2018년부터 시작된 집중적인 준비 작업을 통해 이루어졌습니다. 이 기간 동안 ASML과 ZEISS는 광원, 광학계, 렌즈의 비등축성, 스티칭, 초점 심도 감소, 엣지 배치 오류, 오버레이 정확도와 관련된 High NA EUV 스캐너 전용 솔루션을 개발했습니다. 동시에 imec은 광범위한 공급업체 네트워크와의 긴밀한 협력을 통해 첨단 레지스트 및 언더레이어 소재, 포토마스크, 계측 및 검사 기술, (비등축성) 이미징 전략, 광학 근접 보정(OPC), 통합 패터닝 및 식각 기술 개발을 포함한 패터닝 생태계를 준비했습니다. 이러한 준비 작업은 최근 최초 노광 결과로 이어졌으며, 0.55 NA EUV 프로토타입 스캐너를 사용하여 벨도벤에서 금속 산화물 레지스트(MORs)에 10nm 밀집 라인(20nm 피치)을 처음으로 구현하는 데 성공했습니다.
imec의 Luc Van den hove 사장 겸 CEO는 "High NA EUV는 광학 리소그래피의 다음 이정표로, 단일 노광으로 20nm 피치의 금속 라인/스페이스를 패터닝하고 차세대 DRAM 칩을 구현할 수 있는 잠재력을 가지고 있습니다"라며, "기존의 멀티패터닝 0.33 NA EUV 방식에 비해 수율을 개선하고 공정 시간을 단축하며 CO2 배출량까지 줄일 수 있을 것입니다. 따라서 이는 무어의 법칙을 옹스트롬 시대까지 확장하는 핵심 동력이 될 것입니다. 우리는 프로토타입 High NA EUV 스캐너를 사용하여 이러한 기능을 실제로 탐구하게 되어 매우 기쁩니다. imec과 파트너들에게 High NA EUV 리소그래피 랩은 루벤에 있는 300mm 클린룸의 가상 확장 역할을 하여 패터닝 생태계를 더욱 개선하고 High NA EUV의 해상도를 궁극적인 한계까지 끌어올릴 수 있도록 할 것입니다."라고 말했습니다.
ASML의 Christophe Fouquet 사장 겸 CEO는 "ASML-imec High NA EUV 리소그래피 랩은 EUV 고객, 파트너 및 공급업체들이 자체 시스템이 공장에 설치되기를 기다리는 동안 High NA EUV 시스템에 접근하여 공정을 개발할 수 있는 기회를 제공합니다"라며, "생태계와의 이러한 매우 초기 단계의 협력은 독특하며 기술에 대한 학습 곡선을 크게 가속화하고 제조 도입을 원활하게 할 수 있습니다. 우리는 High NA EUV 여정에서 고객들과 협력하고 지원하기 위해 최선을 다할 것입니다."라고 덧붙였습니다.
ASML은 반도체 산업의 선도적인 공급업체로서, 칩 제조사들이 집적회로(마이크로칩)의 패턴을 대량 생산할 수 있도록 하드웨어, 소프트웨어 및 서비스를 제공합니다. 파트너들과 함께 ASML은 더 저렴하고, 더 강력하며, 더 에너지 효율적인 마이크로칩의 발전을 주도하고 있습니다. ASML은 의료, 에너지 사용 및 보존, 이동성, 농업 등 인류의 가장 어려운 과제를 해결하는 데 기여하는 혁신적인 기술을 가능하게 합니다. 네덜란드 벨도벤에 본사를 둔 ASML은 EMEA, 미국 및 아시아 전역에 사무소를 두고 있으며, 42,700명 이상의 직원들이 기술의 한계를 넓히고 있습니다. ASML은 Euronext Amsterdam과 NASDAQ에 티커 ASML로 상장되어 있습니다.
imec은 나노전자 및 디지털 기술 분야의 세계적인 연구 및 혁신 센터입니다. imec은 최첨단 R&D 인프라와 5,500명 이상의 직원 및 최고 연구진을 활용하여 첨단 반도체 및 시스템 확장, 실리콘 포토닉스, 인공지능, 5G 이후 통신 및 센싱 기술, 그리고 건강 및 생명 과학, 이동성, 산업 4.0, 농식품, 스마트 시티, 지속 가능한 에너지, 교육 등 다양한 응용 분야에서 R&D를 수행합니다. imec은 반도체 가치 사슬 전반에 걸친 세계 산업 리더, 플랑드르 기반 및 국제 기술, 제약, 의료 및 ICT 기업, 스타트업, 학계 및 지식 센터를 통합합니다. 벨기에 루벤에 본사를 두고 있으며, 벨기에, 네덜란드, 미국 전역에 연구 사이트를 운영하고 3개 대륙에 대표부를 두고 있습니다. 2023년 imec의 매출(손익)은 총 9억 4,100만 유로였습니다.