AI 요약
ASML은 imec과 함께 첨단 High NA EUV 리소그래피 랩을 개소하며 차세대 반도체 기술 도입을 가속화할 전망입니다.
이는 2025-2026년 양산 적용을 목표로 하며, 고객사들이 기술 리스크를 줄이고 자체적인 활용 사례를 개발하도록 지원하여 ASML의 미래 성장 동력을 강화할 것으로 기대됩니다.
핵심 포인트
- ASML은 imec과 함께 첨단 High NA EUV 리소그래피 랩을 개소하며 차세대 반도체 기술 도입을 가속화할 전망입니다.
- 이는 2025-2026년 양산 적용을 목표로 하며, 고객사들이 기술 리스크를 줄이고 자체적인 활용 사례를 개발하도록 지원하여 ASML의 미래 성장 동력을 강화할 것으로 기대됩니다.
긍정 / 부정 요인
긍정 요인
- 첨단 High NA EUV 리소그래피 랩 개소
- 차세대 반도체 기술 도입 가속화
- 2025-2026년 양산 적용 목표
- 고객사 기술 리스크 감소 및 활용 사례 개발 지원
- 미래 성장 동력 강화 기대
기사 전문
ASML과 imec, 차세대 반도체 생태계 위한 'High NA EUV 리소그래피 랩' 공동 개소
첨단 반도체 제조 기술 발전을 위한 중요한 이정표 마련
벨기에 루벤 및 네덜란드 벨드호벤, 2024년 6월 3일 – 나노전자 및 디지털 기술 분야의 세계적인 연구혁신 허브인 imec와 반도체 산업의 선도적인 리소그래피 공급업체인 ASML Holding N.V.(ASML)가 네덜란드 벨드호벤에 공동 운영하는 'High NA EUV 리소그래피 랩'의 공식 개소를 발표했습니다.
수년간의 구축 및 통합 과정을 거쳐 문을 연 이 연구소는 최첨단 로직 및 메모리 칩 제조사, 그리고 첨단 소재 및 장비 공급업체들에게 최초의 프로토타입 High NA EUV 스캐너(TWINSCAN EXE:5000)와 관련 공정 및 계측 장비에 대한 조기 접근 기회를 제공합니다.
이번 공동 연구소 개소는 High NA EUV 기술의 대량 생산 준비를 가속화하는 중요한 이정표가 될 것으로 예상됩니다. ASML과 imec는 최첨단 로직 및 메모리 칩 제조사들에게 High NA EUV 프로토타입 스캐너와 코팅 및 현상 트랙, 계측 장비, 웨이퍼 및 마스크 핸들링 시스템 등 주변 장비에 대한 접근 권한을 제공함으로써, 기술 도입의 위험을 줄이고 자체 생산 라인에 스캐너가 도입되기 전에 맞춤형 High NA EUV 활용 사례를 개발할 수 있도록 지원합니다. 또한, 소재 및 장비 공급업체 등 더 넓은 생태계와 imec의 High NA 패터닝 프로그램에도 접근이 가능해집니다.
0.55 NA EUV 스캐너 및 관련 인프라 준비 작업은 2018년에 시작되어 집중적인 준비 과정을 거쳤습니다. 이 기간 동안 ASML과 ZEISS는 광원, 광학계, 렌즈의 비등축성, 스티칭, 초점 심도 감소, 엣지 배치 오류 및 오버레이 정확도와 관련된 High NA EUV 스캐너 전용 솔루션을 개발했습니다. 한편, imec는 광범위한 공급업체 네트워크와의 긴밀한 협력을 통해 첨단 레지스트 및 언더레이어 소재, 포토마스크, 계측 및 검사 기술, (비등축성) 이미징 전략, 광학 근접 보정(OPC), 통합 패터닝 및 식각 기술 개발을 포함한 패터닝 생태계를 준비했습니다.
이러한 준비 작업은 최근 첫 번째 노광 시험으로 이어졌으며, 벨드호벤에서 0.55 NA EUV 프로토타입 스캐너를 사용하여 금속 산화물 레지스트(MORs)에 10nm의 조밀한 라인(20nm 피치)을 최초로 구현하는 데 성공했습니다.
imec의 사장 겸 CEO인 Luc Van den hove는 "High NA EUV는 광학 리소그래피의 다음 이정표로, 단일 노광으로 20nm 피치의 금속 라인/공간 패터닝을 가능하게 하고 차세대 DRAM 칩을 구현할 것으로 기대됩니다. 이는 기존의 멀티 패터닝 0.33 NA EUV 방식에 비해 수율을 향상시키고 사이클 타임을 단축하며, 심지어 CO2 배출량까지 줄일 수 있습니다. 따라서 무어의 법칙을 앙스트롬 시대까지 확장하는 핵심 동력이 될 것입니다. 우리는 프로토타입 High NA EUV 스캐너를 사용하여 이러한 기능을 실제로 탐구하게 되어 매우 기쁩니다. imec와 파트너들에게 High NA EUV 리소그래피 랩은 루벤에 있는 300mm 클린룸의 가상 확장 역할을 하여 패터닝 생태계를 더욱 개선하고 High NA EUV의 해상도를 극한까지 끌어올릴 수 있도록 할 것입니다."라고 말했습니다.
ASML의 사장 겸 CEO인 Christophe Fouquet는 "ASML-imec High NA EUV 리소그래피 랩은 EUV 고객, 파트너 및 공급업체들이 자체 시스템이 공장에 설치될 때까지 High NA EUV 시스템에 접근하여 공정 개발을 진행할 수 있는 기회를 제공합니다. 이러한 초기 단계의 생태계 참여는 매우 독특하며 기술에 대한 학습 곡선을 크게 가속화하고 제조 도입을 원활하게 할 수 있습니다. 우리는 High NA EUV 여정에서 고객들과 협력하고 지원하기 위해 최선을 다할 것입니다."라고 덧붙였습니다.
ASML 소개
ASML은 반도체 산업의 선도적인 공급업체입니다. ASML은 칩 제조사들에게 집적회로(마이크로칩) 패턴을 대량 생산하기 위한 하드웨어, 소프트웨어 및 서비스를 제공합니다. ASML은 파트너들과 함께 더 저렴하고, 더 강력하며, 더 에너지 효율적인 마이크로칩의 발전을 주도하고 있습니다. ASML은 의료, 에너지 사용 및 보존, 이동성, 농업 등 인류의 가장 어려운 과제를 해결하는 혁신적인 기술을 가능하게 합니다. 네덜란드 벨드호벤에 본사를 둔 다국적 기업으로 EMEA, 미국 및 아시아 전역에 사무소를 두고 있습니다. 42,700명 이상의 직원(FTE)이 매일 현 상태에 도전하고 기술의 한계를 넓히고 있습니다. ASML은 Euronext Amsterdam 및 NASDAQ에서 티커 ASML로 거래됩니다. ASML의 제품, 기술 및 채용 기회에 대한 자세한 내용은 www.asml.com 에서 확인할 수 있습니다.
imec 소개
imec는 나노전자 및 디지털 기술 분야의 세계적인 연구혁신 센터입니다. imec는 최첨단 R&D 인프라와 5,500명 이상의 직원 및 최고 연구원 팀을 활용하여 첨단 반도체 및 시스템 스케일링, 실리콘 포토닉스, 인공지능, 5G 이후 통신 및 센싱 기술, 그리고 건강 및 생명 과학, 이동성, 산업 4.0, 농식품, 스마트 시티, 지속 가능한 에너지, 교육 등 다양한 응용 분야에서 R&D를 수행합니다. imec는 반도체 가치 사슬 전반에 걸친 세계적인 산업 리더, 플랑드르 기반 및 국제 기술, 제약, 의료 및 ICT 기업, 스타트업, 학계 및 지식 센터를 통합합니다. 벨기에 루벤에 본사를 두고 있으며, 벨기에 전역, 네덜란드 및 미국에 연구 단지를 운영하고 3개 대륙에 대표부를 두고 있습니다. 2023년 imec의 매출(손익)은 총 9억 4,100만 유로였습니다. imec에 대한 자세한 정보는 www.imec-int.com 에서 확인할 수 있습니다.